Osaka Conv. of JPI (53rd Petroleum-Petrochemical Symposium of JPI)
Oct 26 - Oct 27, 2023大阪科学技術センター
Osaka Conv. of JPI (53rd Petroleum-Petrochemical Symposium of JPI)
Oct 26 - Oct 27, 2023大阪科学技術センター
[P23]HC removal property in aftertreatment system using non-thermal plasma
○Tomohiro Suzuki1, Ryoichi Shimamura1, Ryutaro Tamaki1, Takamasa Imanishi1, Yuta Shima1, Kazuya Naito1, Tatsuya Ehara1(1. DAIHATSU MOTOR CO., LTD.)
Keywords:
HC removal property,Non-thermal Plasma,Aftertreatment system
将来予想される自動車排ガス規制強化やRDE対応には、低温始動時の排ガス浄化が今後益々重要になっていく。本研究では、排ガス温度依存性の少ない低温プラズマにHC吸着材や触媒を組み合わせた排ガス後処理システムを構築し、低温始動条件で排出されるHCの浄化性能を調査した。実車および実エンジンから排出されるHC成分を対象に、プラズマと触媒それぞれで浄化されるHC成分を調査・解析したため報告する。