[21a-P2-11]Fabrication of MOSFET for Engineering Experiment
〇(B)Shogo Tomida1, Takuto Tsuji1, Shiro Nagaoka2, Masahiro Ohtani3(1.NIT, Suzuka College, 2.NIT, Kagawa College, 3.NIT, Nara College)
Keywords:
semiconductor,engineering experiment
これまでに我々は,必要最低限の簡略化したプロセスでSi太陽電池を作製する実験教材を構築し,工学実験などで活用してきた.この実験教材で確立したn型不純物拡散層及びAl電極を簡易な方法で形成するプロセスとあわせて,フォトリソグラフィと酸化膜形成プロセスを新たに確立することができれば,MOSFETを作製する実験教材を構築できる.そこで,これまでに確立した技術を基に,簡略化した方法でMOSFETの作製を試みた.
