The 69th JSAP Spring Meeting 2022
Mar 22 - Apr 18, 2022Sagamihara Campus, Aoyama Gakuin University & Online
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[22a-P01-8]Micarofabrication of single-cell isolation plates and microfluidic devices by KOH etching using Si amorphized mask by Ar+beam irradiation
〇Mina Sato1, Mie Tohnishi1, Akihiro Matsutani1(1.Tokyo Tech.)
Keywords:
KOH etching,Si,ECR ion shower
FIB装置を用いて数十keVのGa＋をSi基板表面に照射した際，アモルファス化によりKOH溶液によるエッチング耐性を示すことが知られているが，その場合には微小範囲のアモルファス化にとどまる．そこで，本発表ではECRイオンシャワー装置を用いてAr＋ビームを試料に照射し，Si表面をアモルファス化し，KOHエッチングにより単一細胞分離プレートを作製した結果について報告する．また，マイクロ流路を作製した結果については当日報告する．