The 70th JSAP Spring Meeting 2023

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Mar 15 - Apr 11, 2023Yotsuya Campus, Sophia University & Online
JSAP Spring / Autumn Meeting
The 70th JSAP Spring Meeting 2023

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Mar 15 - Apr 11, 2023Yotsuya Campus, Sophia University & Online

[17p-PA02-6]XPS analysis of Si mask for KOH etching fabricated by Ar+ beam irradiation

〇Mina Sato1, Mie Tohnishi1, Akihiro Matsutani1(1.Tokyo Tech.)

Keywords:

XPS,KOH etching,ECR ion shower

FIB装置を用いてGaをSi基板表面に照射した際,アモルファス化によりKOH溶液によるエッチング耐性を示すことが知られているが,広範囲のアモルファス化が困難である.そのためECRプラズマ源からArビームを試料に照射すれば,広範囲の微細パターンのアモルファス化が可能になり,KOHエッチング用のエッチングマスクとして機能することを報告した.今回はXPSによりAr照射前後のSi表面の状態について解析した結果を報告する.