[17p-PA02-7]XPS analysis of surface of the electron beam resist SML irradiated with O2 plasma
〇Miho Fujimoto1, Akihiro Matsutani1(1.Tokyo Tech.)
Keywords:
electron beam lithography,plasma,SML
電子線レジストSMLはポリメタクリル酸メチル(PMMA)を骨格とするポジ型電子線レジストである。これまでに我々は、電子線露光前に酸素プラズマを照射することでSMLレジストに増感効果が生じることを報告した。本報告では、酸素プラズマ照射前後におけるSML表面のXPS分析を行ったので報告する。
