日本表面真空学会学術講演会
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[1Ea07S]
Plasma potential control with dual cathode bipolar high-power pulsed magnetron sputtering apparatus
○前田直彦
1)
，モハメッド シュルズミヤ
1)
，中野武雄
1)
(
1)
成蹊大院理工)
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