MMIJ Annual Meeting 2014
Mar 26 - Mar 28, 2014Institute of Industrial Science, The University of Tokyo
MMIJ Annual Meeting 2014
Mar 26 - Mar 28, 2014Institute of Industrial Science, The University of Tokyo
[21-04]the basic research of passivation of chalcopyrite by potentiostatic dissolution in sulfuric acid solution
〇立石 昌平1、水野 耕作2、不破 章雄3(1. 早稲田大学大学院、2. 創造理工学研究科、3. 早稲田大学)
司会:村山 憲弘(関西大学)
黄銅鉱を酸化浸出した際の浸出反応及び表面生成物の電位依存性を調査するために、黄銅鉱を混合したカーボンペースト電極をアノード電極として1M硫酸中で定電位電解を行った。その結果、電解電位が0.9VvsSHE以下で不動態化を示し、0.9VvsSHEより大きい場合、過不動態化を示すことが分かった。また、電気化学測定法及びXPSを用いて各電位での表面生成物を調査したところ、各電位での生成物はCu1-xFe1-yS2であると推測することができた。さらに、それぞれの電位でのFe、Cuの浸出量をICP-MSによって測定したところ、電解電位が0.9VvsSHE以下ではCuよりもFeが、1.0VvsSHE以上では、FeよりもCuが多く浸出されたことが分かった。よって、黄銅鉱の酸化浸出において0.9VvsSHE以下ではCu1-xFe1-yS2(x の電位ではCu1-xFe1-yS2(x>y)が表面生成物であったといえる。また、これらのことから、黄銅鉱の酸化浸出における不動態化の原因はCu1-xFe1-yS2(x