セッション詳細

[1D15-19]除染技術2

2025年9月10日(水) 16:15 〜 17:45
D会場(北九州国際会議場2F 21会議室)
座長:高野 公秀(JAEA)

[1D15]ナノ秒パルスレーザー除染法の開発(III)(1) 飛散粉塵の速度および粒径評価

*山本 恵輔1、小菅   淳2、中嶋 隆1 (1. 京大、2. JAEA)
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[1D16]ナノ秒パルスレーザー除染法の開発(III)(2) 100 Wのナノ秒パルス/連続発振レーザーによるターゲット除去量の比較

*小菅 淳1、山本 恵輔2、中嶋 隆2 (1. 国立研究機関法人日本原子力研究開発機構、2. 京都大学)
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[1D17]小口径配管および汎用構造物のブラスト除染装置のメカニズムに関する基礎研究

*小坂 駿太朗1、上村  悠貴1、木倉  宏成1、谷口  隼人2、川島  彰彦2、杉浦  武志2、高橋  浩3、神坐  圭介4 (1. 科学大、2. 新東工業、3. 富士古河E&C、4. 富士電機)
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[1D18]トリチウムの除染と内部安定化を目指した簡易な表面コーティング手法の検討

*奥村 真郷1、早川 歩1、星野 柚香1、小林 真2、田中 照也2、小田 卓司3、大矢 恭久1 (1. 静岡大学、2. 核融合研、3. ソウル国立大)
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[1D19]ゲルを用いた拭き取り除染技術の研究開発

*五嶋 智久1、ハーベル グレン2、砂川 武義3 (1. 太平電業株式会社、2. オンタリオ工科大、3. 福井工大)
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