[1C10] フォトレジストの再付着防止に及ぼすプルロニック系界面活性剤の添加効果：炭酸アルキレンの組成依存性 | 第72回コロイドおよび界面化学討論会

第72回コロイドおよび界面化学討論会

2021年9月15日〜9月21日

2021年9月15日〜9月21日

*永井泰史¹、大日向秀収²、赤松允顕¹、酒井健一^1,3、酒井秀樹^1,3(1. 東理大理工 (日本)、2. 野村マイクロ・サイエンス（株） (日本)、3. 東理大総研 (日本))

炭酸アルキレン、フォトレジスト、プルロニック系界面活性剤、水晶振動子マイクロバランス

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