ICSCRM2019
2019年9月29日〜10月4日Kyoto International Conference Center
ICSCRM2019
2019年9月29日〜10月4日Kyoto International Conference Center
[Tu-2A-03]Field Stabilizing Trench-Etched DMOS for Suppression of Performance Variation
*Takeru Suto1, Naoki Watanabe1, Yuan Bu1, Hiroshi Miki1, Naoki Tega1, Yuki Mori1, Digh Hisamoto1, Akio Shima1(1. Hitachi, Ltd.(Japan))