[A15]逆水性ガスシフト反応に高活性・高耐久性を示す酸化物修飾Ptナノ粒子内包中空シリカ触媒の開発
○桑原 泰隆1、Xu Caiyun1,2、山田 剛寛1、Zhou Shenghu2、山下 弘巳1(1. 大阪大学、2. 華東理工大学)
吸熱反応である逆水性ガスシフト(RWGS)反応は通常500℃以上の高温域で行われるが、触媒劣化や副反応の進行が問題である。本研究では、W/Oエマルジョン法により、Vなどの酸化物で修飾されたPtナノ粒子を内包した中空シリカ触媒を開発した。開発した触媒は500 ℃でのRWGS反応において高活性、高選択性を示した。In situ XAFSなどによりV酸化物の可逆的レドックスを介して効率的に反応が進行することを明らかにした。また、中空シリカの保護効果により、優れた触媒耐久性を示した。
