応用物理学会春季・秋季学術講演会

半導体プロセスにおいてエッチング液や洗浄液の多成分化・希薄化が進行しており、従来技術では各成分の濃度測定が困難になりつつある。そこで希薄薬液の特性を顕著に表すpHを指標とした数ppmレベルの薬液成分濃度測定の可能性を検討した。