2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

2018年3月17日〜3月20日早稲田大学西早稲田キャンパス/ベルサール高田馬場
応用物理学会春季・秋季学術講演会
2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

2018年3月17日〜3月20日早稲田大学西早稲田キャンパス/ベルサール高田馬場

[17p-P1-11]自然酸化AlGaOx最外殻とGaAs/AlGaAsヘテロ構造を用いたGaAsナノワイヤパッシベーション構造の作製

〇(M1)津田 眞1、石川 史太郎1(1.愛媛大理工)

キーワード:

半導体、ナノワイヤ、GaAs

Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体GaAsを用いたナノワイヤは、単一のナノワイヤそのものがレーザとして機能するなど、高い発光効率を有している。一方、同材料は表面非発光再結合の影響が顕著であり、これを抑制する試みが種々行われている。今回我々はAlGaAs/GaAsコアシェルナノワイヤの作製において、AlGaAs層を自然酸化させ、さらにその内部にもAlGaAsパッシベーション層を成長することを試みた。作製したナノワイヤに対して評価を行った結果を報告する。