2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
2020年3月12日〜3月15日上智大学 四谷キャンパス
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
2020年3月12日〜3月15日上智大学 四谷キャンパス
[12a-PB1-9]分子動力学法による有機ナノ薄膜のせん断特性解析(Ⅱ)
〇多田 和広1、向川 慶汰1、金原 光尊1、宮下 侑也2、安田 雅昭2、平井 義彦2(1.富山高専、2.阪府大院工)
キーワード：
ナノトライボロジー、分子動力学法、原子応力分布
ナノスケールの半導体デバイスの需要が高まっている中，そのナノ加工プロセスとして，ナノインプリント等が注目されている．ナノインプリントにおいては，アライメントや有機材料の充填，離型時のモールド-有機材料界面の摩擦特性[1]などナノトライボロジー現象に関する未解決な課題も多い．
我々はこれまで，ナノトライボロジー現象の基礎的知見を得ることを目的とし，分子動力学法を用いて，ナノスケールの隙間を有する基板に挟まれた有機材料のせん断特性解析を行い，せん断条件の違いにより，せん断応力が大きく異なってくることを調べてきた．本研究では，せん断応力が異なってくる原因を原子レベルから調べるために，原子一つ一つにかかる応力がわかる原子応力分布解析を行った．
我々はこれまで，ナノトライボロジー現象の基礎的知見を得ることを目的とし，分子動力学法を用いて，ナノスケールの隙間を有する基板に挟まれた有機材料のせん断特性解析を行い，せん断条件の違いにより，せん断応力が大きく異なってくることを調べてきた．本研究では，せん断応力が異なってくる原因を原子レベルから調べるために，原子一つ一つにかかる応力がわかる原子応力分布解析を行った．