[16p-Z13-3]凍結洗浄における純水への薬液添加の影響
〇中村 美波1、出村 健介1、中村 聡1、神谷 将也1、服部 圭1,2(1.芝浦メカトロニクス、2.名古屋大学低温プラズマ科学研究センター)
キーワード:
凍結洗浄、フォトマスク、微小異物除去
流体を用いた洗浄において、基板表面から約100nmの領域は、実質的な流れがない滞留層と呼ばれ、原理的に洗浄できない。物理化学力を高めると、基板ダメージが惹起され、トレードオフの関係にある。これに対して、微小異物を選択的に除去する方法として、水が氷る際の体積膨張を利用して、異物のみを除去する凍結洗浄を開発した。今回我々は、水に微量の薬液(アンモニア)を添加した効果を評価したので、結果を報告する。
