応用物理学会春季・秋季学術講演会

シリコンフォトニクスを中心とした光技術の利用が拡大している。光ファイバーとの接合に用いられるポリマー光導波路において、下部クラッドに精密研削技術を適用することにより、クラッド層の面内ばらつきは±0.2 mm以下に抑えられていることが明らかになり、光導波路の平坦化が実現された。このことからコアの位置と均一性が向上すると考えられ、ポリマー光導波路の集積化における貢献が期待される。