2022年第69回応用物理学会春季学術講演会
2022年3月22日〜4月18日青山学院大学 相模原キャンパス + オンライン
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2022年3月22日〜4月18日青山学院大学 相模原キャンパス + オンライン
[22a-P01-8]Ar＋ビーム照射によるSiアモルファスマスクを利用したKOHエッチングによる単一細胞分離プレートとマイクロ流路の作製
〇佐藤 美那1、遠西 美重1、松谷 晃宏1(1.東工大 OFC)
キーワード：
KOHエッチング、Si、ＥCRイオンシャワー
FIB装置を用いて数十keVのGa＋をSi基板表面に照射した際，アモルファス化によりKOH溶液によるエッチング耐性を示すことが知られているが，その場合には微小範囲のアモルファス化にとどまる．そこで，本発表ではECRイオンシャワー装置を用いてAr＋ビームを試料に照射し，Si表面をアモルファス化し，KOHエッチングにより単一細胞分離プレートを作製した結果について報告する．また，マイクロ流路を作製した結果については当日報告する．