SISPAD2023
2023年9月26日〜9月29日
SISPAD2023
2023年9月26日〜9月29日
[Session_4-04]Modeling Oxide Regrowth During Selective Etching in Vertical 3D NAND Structures
*Tobias Reiter1, Alexander Toifl2, Andreas Hössinger2, Lado Filipovic1(1. TU Wien, Inst. for Microelectronics, 2. Silvaco Europe Ltd.)