International Conference on Solid State Devices and Materials
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1985 Conference on Solid State Devices and Materials
1985年8月25日
〜8月27日
Nippon Toshi Center, Tokyo, Japan
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1985 Conference on Solid State Devices and Materials
詳細情報
1985 Conference on Solid State Devices and Materials
1985年8月25日
〜8月27日
Nippon Toshi Center, Tokyo, Japan
[C-1-8]
Novel Josephson Integrated Circuit Technology Based on Selective Trilayer Ion-Beam Etching Process
T. Yoshida、H. Tsuge(1.Microelectronics Research Laboratories, NEC Corporation)
https://doi.org/10.7567/SSDM.1985.C-1-8
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