International Conference on Solid State Devices and Materials
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1989 Conference on Solid State Devices and Materials
1989年8月28日
〜8月30日
Nippon Toshi Center, Tokyo, Japan
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1989 Conference on Solid State Devices and Materials
詳細情報
1989 Conference on Solid State Devices and Materials
1989年8月28日
〜8月30日
Nippon Toshi Center, Tokyo, Japan
[B-2-7]
Reduction of Threading Dislocations and Oxide Precipitates in SIMOX Material
Mamoru Tomozane、H. Ming Liaw(1.Semiconductor Research and Development Laboratory Motorola, Inc.)
https://doi.org/10.7567/SSDM.1989.B-2-7
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