International Conference on Solid State Devices and Materials
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1989 Conference on Solid State Devices and Materials
1989年8月28日
〜8月30日
Nippon Toshi Center, Tokyo, Japan
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1989 Conference on Solid State Devices and Materials
詳細情報
1989 Conference on Solid State Devices and Materials
1989年8月28日
〜8月30日
Nippon Toshi Center, Tokyo, Japan
[B-4-1]
Demands for Submicron MOSFET's and Nitrided Oxide Gate-Dielectrics
Takashi Hori(1.Basic Research Laboratory, Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.)
https://doi.org/10.7567/SSDM.1989.B-4-1
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