International Conference on Solid State Devices and Materials
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2004 International Conference on Solid State Devices and Materials
2004年9月14日
〜9月17日
Tower Hall Funabori, Tokyo, Japan
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2004 International Conference on Solid State Devices and Materials
詳細情報
2004 International Conference on Solid State Devices and Materials
2004年9月14日
〜9月17日
Tower Hall Funabori, Tokyo, Japan
[A-2-3]
High Mobility Dual Metal Gate MOS Transistors with High-k Gate Dielectrics
Kensuke Takahashi、Kenzo Manabe、Ayuka Morioka、Taeko Ikarashi、Takuya Yoshihara、Heiji Watanabe、Toru Tatsumi(1.System Devices Research. Laboratories, NEC Corporation)
https://doi.org/10.7567/SSDM.2004.A-2-3
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