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5:40 PM - 5:55 PM JST(8:40 AM - 8:55 AM UTC)

[2J15]Development of Ti:Sapphire Laser System for the Resonant Ionization Laser Ion Source at RIKEN-RIBF-SLOWRI

＊Hideki Tomita^1,2, Takahide Takamatsu^1,2, Daiki Matsui^1,2, Volker Sonnenschein¹, Mikael Reponen², Tetsu Sonoda², Atsushi Nakamura¹, Klaus Wendt³, Michiharu Wada^2,4, Tetsuo Iguchi¹ (1.Nagoya Univ., 2.RIKEN Nishina Center, 3.Johannes Gutenberg-University Mainz, 4.KEK)

Keywords:

Resonant Ionization Laser Ion Source,RI beam factory (RIBF),universal SLOW RI-beam facility (SLOWRI)

理化学研究所RIビームファクトリー(RIBF)の低速RIビーム施設(SLOWRI)にて、共鳴イオン化レーザーイオン源の開発を進めている。高繰り返し率Ti:Sapphire(Ti:Sa)レーザーのSLOWRIへの導入とオフライン基礎実験、および、Ti:Saレーザーシステム（注入同期Ti:Saレーザー、グレーティングTi:Saレーザー）の開発状況について報告する。

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