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[P169]スパッタリング法による(Ti1-xNbx)O2-δの成膜とその光応答
*AOKI Manami1, UEDA Masato2, IKEDA Masahiko2 (1. 関西大学大学院理工学研究科、2. 関西大学化学生命工)
Keywords:
半導体,光触媒,細胞培養器
TiとNbの同時スパッタリングによりTiO2膜へのNbドーピングを試みた。Nbへの投入電力を増加させるとNbドープ量が増加した。同膜では可視光域にも吸収が認められ不純物準位の形成が示唆された。
