Presentation Information
[P17]Selection of buffer thin film for superior epitaxial chromium nitride thin film deposition
*Junya NITTA1, Takumi SUGAI1, Tadachika NAKAYAMA1, Hisayuki SUEMATSU1, Tsuneo SUZUKI1 (1. Nagaoka Univ. Tech.)
Keywords:
CrN,パルスレーザー体積法,エピタキシャル成長,電気抵抗率測定,中間層
過去・現在の研究室での結果を踏まえ、パルスレーザー堆積法により、NiO、Cr-Yb-N、Cr-Fe-N薄膜を成膜し、その結晶性と電気抵抗率測定からCrN薄膜を成膜するために適した中間層（バッファ）を選定した。