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[S7.12]Hydrogen Desorption from Mg hydride films with Ni and Ni alloy layers

*Ryoya Ishigami1, Kazufumi Yasunaga1, Kohtaku Suzuki1 (1. The Wakasa Wan Energy Research Center)

Keywords:

水素化マグネシウム,薄膜,水素脱離温度,触媒

水素化Mg膜にNiまたはNi合金を成膜し、水素の昇温脱離スペクトルを測定した。Niを成膜したときには90℃付近から水素の放出が始まった。水素化MgとNiを交互に5回ずつ成膜した場合、放出ピークは5つ現れた。