[S5] Materials Science in Surface Chemistry on Metals

11:35 AM - 12:00 PM JST(2:35 AM - 3:00 AM UTC)

[S5.7] Simultaneous analysis of open circuit potential and dissolution behavior of industrial pure aluminum

*Hiroshi Kakinuma¹, Izumi Muto², Yoshiyuki Oya³, Takahiro Momii³, Yu Sugawara², Nobuyoshi Hara² (1. Tohoku Univ. (PhD student), 2. Tohoku Univ., 3. UACJ)

Keywords:

アルミニウム,孔食,in situ観察,自然浸漬電位

工業用純アルミニウムの孔食発生過程のin situ観察を行い、溶解挙動と自然浸漬電位の関係を解析した。