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1:00 PM - 2:30 PM JST(4:00 AM - 5:30 AM UTC)

[P62]Comparative investigation of thickness ratio of Si-DLC interlayer with different raw material gas compositions and DLC film

*Shoya SAWADA¹, Akio NISHIMOTO² (1. Kansai University, 2. Kansai University)

表面改質処理,CVD,DLC,Si-DLC,中間層,膜厚比

本研究では、Si含有DLC（Si-DLC）を中間層として利用し、原料ガス組成を変化させることに着目した。また、Si-DLC中間層とDLC膜の膜厚比を変化させた際の機械的特性への影響を調査した。