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3:30 PM - 3:45 PM JST(6:30 AM - 6:45 AM UTC)

[290]Formation process and stability of Mg₂Si-Mg₂Sn two-phase microstructure

*Hiromasa ICHISE¹, Naoki UEDA¹, Manabu WATANABE¹, Yaw　Wang CHAI¹, Yonghoon LEE², Yoshisato KIMURA¹ (1. Tokyo Inst. of Tech, 2. KELK Ltd)

熱電材料,多層化,相安定性,組織制御,熱処理

高温で長時間安定性が求められるMg₂Si-Mg₂Sn２相合金の安定性の理解を目的として、高周波溶解により作製した合金に種々の条件で均質化熱処理を施して組成分析とXRD回折を行い、２相組織の安定性の評価を行った。