[G] Surface ,Interface and Catalysts

2:55 PM - 3:10 PM JST(5:55 AM - 6:10 AM UTC)

[216] Crystal structure of TaN thin films and electrochemical O₃ production properties

*Ryoma Sakata¹, naoto Todoroki¹, Satoru Matsumoto², Koki Ishigame², Satoshi Matsuyama², Toshimasa Wadayama¹ (1. Tohoku Univ., 2. ISHIFUKU Metal Industry Co.)

強力な酸化剤の一種であるO₃製造方法の一つが水電解法である。
本研究では、水電解法によるO₃製造に用いるアノード材料としてTaNを採用し、その結晶構造とO₃特性との関係を調査した。