Presentation Information
[K2.6]Present and Future of Hard Trivalent Chromium Plating.
*Jun-ichi Katayama1, Yoshiaki Maeda1, Masafumi Nozaki1, Yusuke Yoshikane1, Toshimitsu Nagao1, Atsushi Kitada2 (1. OKUNO CHEMICAL INDUSTRIES CO.,LTD, 2. Department of Chemical System Engineering, The University of Tokyo)
Keywords:
電気めっき,3価クロム,皮膜硬度,濃厚塩水溶液
クロムめっき皮膜は硬度や耐摩耗性に優れており工業的に重要なめっき技術である。近年では有害な6価クロム塩を使用しない代替技術が望まれており、講演では硬質用3価クロムめっきの開発状況について述べる。