[P] P21~P26

10:00 AM - 11:30 AM JST(1:00 AM - 2:30 AM UTC)

[P24] Analysis of Hydrogen in Electrolessly Deposited Cu Films from Rochelle Salt Bath

*Kazuma HAYASHI¹, Kosuke TOHDA², Naoki FUKUMURO³, Shinji YAE³ (1. 兵庫県立大工（学生）、2. 兵庫県立大工（院生）、3. 兵庫県立大工)

Keywords:

無電解銅めっき,水素,昇温脱離スペクトル,X線回折,透過電子顕微鏡

本研究では、昇温脱離スペクトル(TDS)によりロッシェル塩を錯化剤とする低温操作型無電解銅めっきにおいて、膜中に共析した水素の存在状態を分析した。