[P] P1~P7

2:30 PM - 4:00 PM JST(5:30 AM - 7:00 AM UTC)

[P1] High-pressure synthesis and crystal chemistry of novel chromium silicides

*Takuya Sasaki¹, Koichi Takano², Nico　Alexander Gaida¹, Ken Niwa¹, Masashi Hasegawa¹ (1. Nagoya Univ., 2. Nagoya Univ.)

Keywords:

高圧合成,遷移金属ケイ化物,新物質合成

Cr–Si系におけるSiに富んだ新規ケイ化物MoSi₂型CrSi₂およびPdGa₅型CrSi₅の高圧合成に成功した．DFT計算によって，高圧下でCrSi₂とSiの混合状態よりもPdGa₅型CrSi₅がエンタルピー安定であることが明らかとなった．