Presentation Information
[P134]Evolution of microstructure and electrical property of contact materials from Al・Cu wire
*Kouta SAGA1, Takumi MORIKAWA2, Atsushi Tsuji2, Shizuka Watanabe2,Kouji TANAKA3 (1. 大同大工(院生)、2. 大同大工(学生)、3. 大同大工)
Keywords:
Al,Cu,金属間化合物,電気接点,電気抵抗率,共晶反応,反応合成
共晶温度直上において,Al・Cuの撚線から形成される組織を調査した.反応はAl線/Cu線の接点から始まり,加熱時間とともに共晶組織からθ主体の組成に変化した.θ(Al2Cu)の生成比率が大きい試料ほど電気抵抗率が増加した.
