[G] Electronic Materials/Terahertz Light

5:00 PM - 5:15 PM JST(8:00 AM - 8:15 AM UTC)

[254] Preparation and solubility limit of Si_xFe_3-xO₄ solid solution

*Seishi ABE¹, Toru Kawamata², Kazumasa Sugiyama² (1. Research Institute for Electromagnetic Materials, 2. Institute for Materials Research, Tohoku University)

Keywords:

鉄酸化物,焼結体,相転移,固溶体,固溶限

Si_xFe_3-xO₄焼結体を作製し、Siのの固溶限の検討を行った。その結果、Si濃度と格子定数の関係、EDS分析、および微小な単結晶粒を用いた反射X線解析の結果から、の固溶限はx=約0.06と見積もられる。