Presentation Information
[P60]Fabrication of nitrogen-doped TiO2 films by reactive sputtering and evaluation of their photocatalytic activity
*Sunyong Shim1, Kyosuke Ueda2, Takayuki Narushima2 (1. Graduate School of Engineering, Tohoku Univ. (M), 2. Graduate School of Engineering, Tohoku Univ.)
Keywords:
反応性スパッタリング法,TiO2膜,光触媒,バンドギャップ,可視光応答化
アナターゼ優勢型窒素添加TiO2膜を作製した。O2分率の低下およびN2分率の増加によりバンドギャップが減少した。可視光照射下において、窒素添加TiO2膜は水接触角が10°付近まで減少し、可視光応答の可能性を示した。