[P] P10~P26

[P21] Microstructure Investigation of ZnO-NR/Si Nano Interface Fabricated by Galvanic Submerged Photo-Synthesis

*Kensuke KINUGASA¹, Lihua ZHANG², Kazumasa OKAMOTO³, Seiichi WATANABE² (1. Graduate school of Engineering, Hokkaido Univ., 2. Faculty of Engineering, Hokkaido Univ., 3. SANKEN, UOsaka)

Keywords:

光機能材料,半導体光物性,ナノ接合界面,電子顕微鏡

G-SPSC法により、室温・大気圧下でSi基板上に自然酸化膜を介してZnOナノロッドを直接成長させることが示された。ZnOとSi界面では、ナノスケールでの元素拡散を伴う成長機構が明らかとなった。