Presentation Information
[P186]High-Pressure Synthesis and Crystal Structure of a New Ruthenium Silicide, RuSi3
*Takumi Kitahara1, Takuya Sasaki2, Ken Niwa2, Masashi Hasegawa2 (1. Nagoya Univ., 2. Nagoya Univ.)
Keywords:
高圧合成,遷移金属ケイ化物,4d軌道,XRD
超高圧合成により新規RuSi3 (単斜晶系C2/c構造) の合成に成功した．これはRu-Si系初のSiに富む相であり，高圧合成の有効性を示すとともに，4d遷移金属ケイ化物の結晶化学解明に寄与する．
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