[P] P192~P211

[P209] Microstructure of Ag-Bi alloy films electrodeposited from an acidic bath

*Kohei Maruyama¹, Masaomi Horita², Hikari Minamisawa², Masahiro Shimizu², Susumu arai² (1. Shinshu Univ. (Grad student), 2. Shinshu Univ.)

Keywords:

Ag-Bi合金,電気めっき,酸性浴,微細構造,膜硬度

酸性浴から作製したAg-Bi合金めっき膜の微細構造を解析することを目的とした。その結果添加剤を加えることにより膜状析出する合金めっき膜を作製し、その合金めっき膜の硬度が160HVであることを確認した。