Presentation Information
[S1.24]Simulations of void formation in SiO2/TiO2 composite films formed on MoSiBTiC alloys under high-temperature water environment by reactive molecular dynamics method
*Watanabe Keaki1, Fukushima Shogo1, Su Yixin1,2, Ootani Yusuke1, Ozawa Nobuki2, Kubo Momoji1,2 (1. Institute for Materials Research, Tohoku Univ., 2. New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku Univ.)
Keywords:
MoSiBTiC合金,反応分子動力学法,SiO2/TiO2複合皮膜,引張りシミュレーション
超高温環境での実用化が期待されるMoSiBTiC合金の耐久性を向上させるために、合金表面に形成されるSiO2/TiO2保護性皮膜の損傷メカニズム解明に向けた引張りシミュレーションを反応分子動力学法により行った。
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