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[268]Finite Element Analysis of interfacial stress for Al2O3/Ni-base substrate evaluated by nanoindentation technique

*Chihiro Tabata1,2, Taiyo Maeda3, Toshio Osada1,5, Shingo Ozaki5, Kyoko Kawagishi1,4, Shinsuke Suzuki4 (1. NIMS, 2. Waseda University, 3. Yokohama National University, 4. Waseda University, 5. Yokohama National University)

Keywords:

Ni基単結晶超合金,有限要素解析,S偏析,ナノインデンテーション,耐酸化性

ナノインデンテーション試験法にてS偏析量の異なる酸化被膜/Ni基母材界面強度を評価した.これらをFEAにて模擬し,界面へ作用する応力状態および亀裂発生挙動を明らかにすることで,界面強度の定量評価を行った.

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