日本分析化学会第72年会
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17：界面分析

界面分析　1

Fri. Sep 15, 2023 1:15 PM - 2:00 PM JST
Fri. Sep 15, 2023 4:15 AM - 5:00 AM UTC
B3会場 熊本城ホール
座長:安達 健太(山口大学大学院創成科学研究科)
1:15 PM - 1:30 PM JST(4:15 AM - 4:30 AM UTC)

[3B3-101]低水分電解研磨法がNb表面の水素吸蔵へ及ぼす影響

○後藤 剛喜1 (1. 高エネルギー加速器研究機構)
1:30 PM - 1:45 PM JST(4:30 AM - 4:45 AM UTC)

[3B3-102]蛍光色素を用いた毛髪の表面状態の観察

○山田 杏樹1、佐藤 聡太郎1、堀田 弘樹1,2、辻野 義雄　2、中川 充3、懸橋 理枝3、望月 佑次4 (1. 神戸大院海事科学、2. 神戸大院イノベ、3. 大阪産技研、4. ロート製薬)
1:45 PM - 2:00 PM JST(4:45 AM - 5:00 AM UTC)

[3B3-103]中性子準弾性散乱を用いたナノ細孔内タンパク質のダイナミクス測定

○小島 吉智1、山口 央1、Sauza Nicolas2 (1. 茨城大院理工、2. ANSTO)
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