[16p-C31-1~18] 6.4 Thin films and New materials

4:00 PM - 4:15 PM JST(7:00 AM - 7:15 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[16p-C31-11] Room-Temperature Fabrication of Dielectric Multilayers by Solution Process

〇Ayumu Nagaoka¹, He Sun², Luyang Song², Lina Yoshida³, Tsukasa Yoshida¹, Yoshiyuki Suzuri² (1.Graduate school of organic materials science, Yamagata Univ., 2.INOEL, Yamagata Univ., 3.National Institute of Technology, Tokyo College)

Keywords:

dielectric multilayers,high refractive index thin films

特定の波長光を選択的に反射する誘電体多層膜は高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の交互積層構造を持つ。高屈折率薄膜を安価で環境負荷が低い溶液プロセスにより成膜するには、一般的に高温焼成が必要だが、Vacuum ultraviolet (VUV)光照射による光緻密化反応を適用することで、非加熱での高屈折率薄膜の成膜と誘電体多層膜の室温作製に取り組んだ。結果として波長450nmにて反射率94%と高い反射率を持つ誘電体多層膜の室温作製を達成した。