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3:45 PM - 4:00 PM JST(6:45 AM - 7:00 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[8p-E203-9]Thickness Ratio Dependence of Electrical Transport in TbFeCo/BiSb Multilayers

〇(M1C)Masaya Ito¹, Kai Horiuchi³, Masaomi Mizuno¹, Ryo Ando², Ryota Uesugi¹, Takashi Komine¹ (1.Ibaraki Univ., 2.Ibaraki College., 3.Tohoku Univ.)

Keywords:

Nernst effect,multilayer structure,Parallel conduction model

無磁場下での異常ネルンスト効果（ANE）の増大に向け，その鍵となる横抵抗率の向上を目的として，磁性体TbFeCo膜と非磁性体BiSb膜からなる多層膜を作製し，電気輸送特性を評価した．単層膜の測定結果を基に並列伝導モデルを用いて解析したところ，積層膜の横抵抗率はモデル計算値の約1.3倍に増大することが分かり，構造制御による特性向上の可能性を示した．講演では，膜厚比が輸送特性に与える影響を議論する．

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