Presentation Information
[9p-E308-12]Radical monitoring using nanometer thick TFTs in plasma enhanced ALD
〇Fumihiko Hirose1 (1.Yamagata Univ)
Keywords:
ALD,TFT,radical
我々は、水蒸気をアルゴンで希釈したガスをICP で励起し、これを反応ガスとして用いる室温
原子層堆積法を開発してきた。本方法では、加湿アルゴンをプラズマ励起することで OH
ラジカル を生成する。これにより、室温でも有機金属ガスを効率よく酸化し、表面に安定したOH
基を形成でき、これが室温堆積の駆動力となる。このプロセスにおいて、表面での酸化過程を把握することは、高密度ラジカル生成の観点から重要である。 そこで我々は、厚さ約16 nm の極薄酸化チタン膜をチャネルとする薄膜トランジスタを作製し、その高い表面感受性を利用してラジカルのモニタリングに応用することを試みた。
原子層堆積法を開発してきた。本方法では、加湿アルゴンをプラズマ励起することで OH
ラジカル を生成する。これにより、室温でも有機金属ガスを効率よく酸化し、表面に安定したOH
基を形成でき、これが室温堆積の駆動力となる。このプロセスにおいて、表面での酸化過程を把握することは、高密度ラジカル生成の観点から重要である。 そこで我々は、厚さ約16 nm の極薄酸化チタン膜をチャネルとする薄膜トランジスタを作製し、その高い表面感受性を利用してラジカルのモニタリングに応用することを試みた。