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[1708]Application of PIV method to the measurement of flow velocity in a copper electrorefining tankhouse
○小山和也1, 安樂祐哉1, 片岡良平1 (1.千葉工業大学)
司会:大上悟(九州大学)
電解精製ではアノードでは粗金属の溶解、カソードでは析出がおこり、また、アノードスライムの電解液中の懸濁などを考慮すると、電極間での流動は基本的には緩やかであることが予想される。本報告は、電解精製における電極間での電解液の流れの可視化および流速測定についてPIV法(Particle Image Velocimetry:粒子画像流速測定)の適用に関するものである。PIV法は、流れ場の中に入れたトレーサー粒子にレーザーを照射し、レーザーシートで切り出された流れ場の2次元断面内の粒子群の移動量から流速を測定する方法である。本実験では第１段階として、電解をしない状況での流れについて検討した。390mm(W)×390mm(D)×395mm(H)の水槽に、電極に見立てたアクリル板を4cm間隔で設置し、ポンプで給排液を行いながらアクリル板の間の流動の観察及び流速測定を行った。給排液を毎分3.2L、上入れ下抜きで行った場合、最上部を除き下向きの流れが生じ、下部ほど流速が大きくなった。下向きの速度は1から8mm/s程度であった。また、上入れ上抜きで行った場合でも流速に大きな変化は見られなかった。