[1F01-04] 水質管理、除染、FAC

11:00 〜 11:15

[1F04] 酸化還元電位を用いた過酸化水素注入制御での化学除染剤中シュウ酸のUV分解

*細川 秀幸¹、石田 一成¹、大平 高史²、柳澤 慎太郎² (1. 日立、2. 日立GEベルノバ)

キーワード：

化学除染、シュウ酸、過酸化水素、酸化還元電位

化学除染で使用するシュウ酸の分解に紫外線と過酸化水素を利用する方法では、光化学反応によるFe²⁺イオンの形成と過酸化水素によるFe³⁺イオンの生成が同時に生じる。過剰な過酸化水素はイオン交換樹脂の分解を促進することから、添加する過酸化水素の制御指標が必要である。そこでFe³⁺とFe²⁺の濃度比に依存する酸化還元電位と過酸化水素の残留の有無の関係を調べ、過酸化水素が残留すると高電位になることを見出した。この関係を適用して、除染を模擬した実験体系で紫外線と過酸化水素を用いたシュウ酸の分解を実施した。酸化還元電位の上昇が見られたところで過酸化水素の注入速度を下げることで、過酸化水素を残留させることなく、シュウ酸を完全に分解できることを確認した。