平成30年度 全国鉱山・製錬所現場担当者会議

平成30年度 全国鉱山・製錬所現場担当者会議

2018年6月13日〜6月15日TKP市ヶ谷カンファレンスセンター
日本鉱業協会
平成30年度 全国鉱山・製錬所現場担当者会議

平成30年度 全国鉱山・製錬所現場担当者会議

2018年6月13日〜6月15日TKP市ヶ谷カンファレンスセンター

[10601-09-05]光学調整膜用途スパッタリングターゲットの開発

○宗安 慧1、奈良 淳史1(1. JX金属(株))
司会:宇田川 悦郎(JFEミネラル)