講演情報
[48]フォトン照射による電子励起反応を用いたRuシリサイドの形成
*古川 大希1、市川 修平2、佐藤 和久2、今村 真幸3、高橋 和敏3、保田 英洋2 (1. 阪大工(院生)、2. 阪大電顕センター、3. 佐賀大学シンクロトロン)
キーワード：
シンクロトロン光光電子分光、ルテニウム、シリサイド、電子励起
HOPG基板上に作製したSiOx/Ru/SiOx構造へ500、560 eVのシンクロトロン光を照射し、光電子分光によってRuシリサイド形成の有無を評価した。O1s内殻電子の励起がRuシリサイド形成に寄与していることが示唆された。