[S5] S5 先進ナノ構造解析に基づく材料科学の新展開II(2)

11:20 〜 11:40

[S5.20] 遺伝的アルゴリズムを用いたシリコン粒界中の炭素偏析サイトの探索

*野田 祐輔¹、横井 達矢¹、中村 篤智¹、松永 克志^1,2 (1. 名大工、2. JFCC)

キーワード：

シリコン粒界、不純物偏析、理論計算、遺伝的アルゴリズム

材料シミュレーションと遺伝的アルゴリズムを用いて、シリコン粒界中の炭素偏析サイトを探索し、エネルギー的に最安定である炭素偏析構造を求めた。又、シリコン粒界構造と炭素偏析の関係について解析を行った。